特點：

本儀器採用非接觸、光學相移干涉測量方法，測量時不損傷工件表面，能快速測得各種工件表面微觀形貌的立體圖形，並分析計算出測量結果。適用於測量各種量塊、光學零件表面的粗糙度；尺規、度盤的刻線深度；光柵的槽形結構鍍層厚度和鍍層邊界處的結構形貌；磁（光）盤、磁頭表面結構測量；矽片表面粗糙度及其上圖形結構測量等等。

由於儀器測量精度高，具有非接觸和三維測量的特點，並採用電腦控制和快速分析、計算測量結果，本儀器適用於各級測試、計量研究單位工礦企業計量室，精密加工車間，也適用於高等院校和科學研究單位等。

規格：
1. 表面微觀不平深度測量範圍：
    在連續表面上，相鄰二象素之間沒有大於1 / 4 波長的高度突變時：1000 一1nm
    相鄰二象素之間含有大於1 / 4 波長的高度突變時：130 一1nm
2. 測量的重複性：δRa ≤0.5nm
    物鏡倍率：40X
    數值孔徑：Ø 65
3. 工作距離：0.5mm
4. 儀器視場 目視：Ø0.25mm
   攝象：0.13×0.13mm
5. 儀器放大倍數 目視：500×
   攝象（電腦螢幕觀察）一2500×
6. 接收器測量列陣：1000X1000
   象素尺寸：5.2×5.2µm
7. 測量時間採樣（掃描）時間：1S
8. 儀器標準鏡 反射率（高）: ～50 %
                 反射率（低）: ～4 %
9. 照明光源：白熾燈6V 5W
10. 綠色干涉濾光片波長：λ≒530nm
                    半寬度λ≒10nm
11. 主顯微鏡升程：110 mm
12. 工作臺升程：5 mm
13. X 、丫方向移動範圍： ～10 mm
14. 工作臺旋轉運動範圍：360°
15. 工作臺頃斜範圍：±6°
16. 電腦系統：P4 , 2 .8G 以上，記憶體1G以上17寸純平顯示器