特点：

本仪器采用非接触、光学相移干涉测量方法，测量时不损伤工件表面，能快速测得各种工件表面微观形貌的立体图形，并分析计算出测量结果。适用於测量各种量块、光学零件表面的粗糙度；尺规、度盘的刻线深度；光栅的槽形结构镀层厚度和镀层边界处的结构形貌；磁（光）盘、磁头表面结构测量；矽片表面粗糙度及其上图形结构测量等等。

由於仪器测量精度高，具有非接触和三维测量的特点，并采用电脑控制和快速分析、计算测量结果，本仪器适用於各级测试、计量研究单位工矿企业计量室，精密加工车间，也适用於高等院校和科学研究单位等。

规格：
1. 表面微观不平深度测量范围：
    在连续表面上，相邻二象素之间没有大於1 / 4 波长的高度突变时：1000 一1nm
    相邻二象素之间含有大於1 / 4 波长的高度突变时：130 一1nm
2. 测量的重复性：δRa ≤0.5nm
    物镜倍率：40X
    数值孔径：Ø 65
3. 工作距离：0.5mm
4. 仪器视场 目视：Ø0.25mm
   摄象：0.13×0.13mm
5. 仪器放大倍数 目视：500×
   摄象（电脑萤幕观察）一2500×
6. 接收器测量列阵：1000X1000
   象素尺寸：5.2×5.2µm
7. 测量时间采样（扫描）时间：1S
8. 仪器标准镜 反射率（高）: ～50 %
                 反射率（低）: ～4 %
9. 照明光源：白炽灯6V 5W
10. 绿色干涉滤光片波长：λ≈530nm
                    半宽度λ≈10nm
11. 主显微镜升程：110 mm
12. 工作台升程：5 mm
13. X 、丫方向移动范围： ～10 mm
14. 工作台旋转运动范围：360°
15. 工作台顷斜范围：±6°
16. 电脑系统：P4 , 2 .8G 以上，记忆体1G以上17寸纯平显示器