商品介紹

首頁 商品介紹 > 高溫爐系列產品 > 高真空管狀爐、CVD沉積系統

高真空管狀爐、CVD沉積系統

高真空管狀爐、CVD沉積系統

是一款多用途高真空、氣氛熱處理實驗設備,該系統由管式加熱爐、真空系統、水冷系統組成,主要應用於氣氛保護燒結、材料還原、材料真空脫氣,精密材料真空熱處理、時效處理、CVD實驗等一些需要高真空或氣氛保護環境下的熱處理實驗。

主要功能和特點:

  1. 系統啟動快,抽氣時間短,可獲得無油污染的清潔真空環境。
  2. 真空度顯示採用科學計數法,數字顯示,使用方便直觀。
  3. 測量精度高、穩定性好、抗干擾能力強。
  4. 系統操作方便,簡單易懂。
  5. 可抽吸無腐蝕性、不溶于水、不含有固體顆粒的氣體,吸入氣體中允許混有少量液體。
  6. 一體式爐架結構,可移動,組合、安裝方便快捷。