高真空管状炉、CVD沉积系统
是一款多用途高真空、气氛热处理实验设备,该系统由管式加热炉、真空系统、水冷系统组成,主要应用於气氛保护烧结、材料还原、材料真空脱气,精密材料真空热处理、时效处理、CVD实验等一些需要高真空或气氛保护环境下的热处理实验。
主要功能和特点:
- 系统启动快,抽气时间短,可获得无油污染的清洁真空环境。
- 真空度显示采用科学计数法,数字显示,使用方便直观。
- 测量精度高、稳定性好、抗干扰能力强。
- 系统操作方便,简单易懂。
- 可抽吸无腐蚀性、不溶于水、不含有固体颗粒的气体,吸入气体中允许混有少量液体。
- 一体式炉架结构,可移动,组合、安装方便快捷。