CVD系统集加热系统、真空系统、混气系统、尾气处理系统及压力控制单元为一体，用於真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米管生长、石墨烯生长及复合碳材的渗透等。

PECVD是借助於辉光放电产生的等离子体中的电子动能去启动气相的化学反应。该系统由真空管式炉、石英反应腔室、射频电源、多通道混气系统、真空机组、反应控制系统组成。

特点：

1. 利用辉光放电产生等离子体电子启动气相。
2. 提高了气相反应的沉积速率、成膜品质。
3. 可通过调整射频电源频率来控制沉积速率。
4. 能广泛用於：石墨烯、SiOx、SiNx、CNx、TiCxNy等薄膜的生长。